光刻機行業市場規模、發展機遇及競爭格局分析（附報告目錄）
1、光刻機行業市場規模分析
光刻機是芯片制造的核心設備之一，廣義的光刻機包括用于生產芯片的光刻機、用于封裝的光刻機、用于LED制造領域的投影光刻機。光刻機被業界譽為集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。目前是中國在半導體設備制造上z大的短板。
數據顯示，2019 年全球 IC 前道光刻機銷售數量為 359臺，其中主要為 I-line 光刻機、KrF 光刻機和 ArFi 光刻機；2009 年至 2019 年光刻機銷售數量復合增長率為 9.57%。隨著 IC 制程不斷向前推進，IC 元件將更加復雜，平均所需的曝光層數不斷增多，這將驅動光刻機需求的增長。未來 EUV光刻機將主要應用在關鍵層曝光，銷售量占比將有望提升；ArFi 光刻機將主要應用在次關鍵層曝光，KrF 和 ArF 光刻機則將主要應用在非關鍵層曝光，銷售量將保持相對穩定；而 I-line 光刻機在存儲芯片的非關鍵層曝光中還有廣泛的應用，但在 28nm 以下節點的邏輯芯片非關鍵層曝光中的應用則將逐漸減少。
相關報告：北京普華有策信息咨詢有限公司《2021-2027年光刻機產業全景深度調研及投資策略研究分析報告》
2015-2019年全球 IC 前道光刻機銷量（分產品類型）
資料來源：普華有策
統計數據顯示，2019 年全球 IC 前道光刻機市場規模為135.20 億美元，2009 年至 2019 年復合增長率為 19.19%。其中，2019 年 EUV光刻機市場規模為 31.00 億美元，同比增長 47.62%，占整體市場規模的比例達22.93%。隨著 EUV 光刻機的銷量快速提升，其占整體市場規模的比例將有望進一步提高。
2、國產半導體設備的需求帶動國產光刻機的發展機遇
我國光刻機市場的發展主要受益于我國晶圓產能的快速擴張以及設備國產化進程的加速推進。近年來，隨著國家加大半導體領域的投入，我國半導體設備采購額逐年增加。2018 年中國大陸半導體設備市場規模達131.10 億美元，同比增長 59.30%，高于全球半導體設備市場規模同比增長率13.97%，中國大陸成為半導體設備市場規模增長最快的地區。此外，隨著中國大陸晶圓產能的建設和擴產，中國將成為全球晶圓產能增長的重心，這將帶動國產半導體設備的需求增長，為國產光刻機的發展提供了良好的機遇。
3、光刻機行業競爭格局分析
光刻機的主要生產商包括荷蘭 ASML、日本尼康、日本佳能和上海微電子。其中，ASML 獨占了 70%以上的市場份額。我國光刻機研發起步較慢，2003 年國務院啟動中長期科技發展規劃的制定工作，并于 2006 年完成發布《國家中長期科學和技術發展規劃綱要（2006-2020 年）》，確定了極大規模集成電路制造技術及成套工藝作為重大專項，即所謂―02 專項‖，推動了包括光刻機在內的集成電路設備行業的快速發展。目前，我國的上海微電子研制的 90nm 高端步進掃描投影光刻機已完成整機集成測試，并在客戶生產線上進行了工藝試驗，是我國 IC前道光刻機龍頭企業。