光刻膠行業細分市場產品應用領域分析及重點企業分析
1、光刻膠產品介紹及分類情況
光刻膠是由感光樹脂、光引發劑、溶劑三種主要成分和其他助劑組成的對光敏感的混合液體，是通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X 射線等光照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。感光樹脂構成光刻膠的基本骨架，主要決定曝光后光刻膠的基本性能，包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前和曝光后對特定溶劑的溶解度；光引發劑對光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用；溶劑用于溶解光刻膠各組成成分，也是后續光刻膠化學反應的介質。助劑是指根據不同用途添加的顏料、固化劑、分散劑等調節性能的添加劑。
光刻膠種類繁多，根據其化學反應機理和顯影原理，可分為正性光刻膠和負性光刻膠兩類。對顯影液不可溶，經光照后變成可溶物質的即為正性光刻膠；反之，光照后形成不可溶物質的是負性光刻膠。根據應用領域，光刻膠可分為集成電路光刻膠（可細分為晶圓制造、先進封裝）、顯示面板光刻膠和 PCB 光刻膠，其技術壁壘依次降低。PCB 光刻膠是目前國產替代進度最快的產品；顯示面板中 LCD 光刻膠替代進度相對較快，OLED 光刻膠仍由國外企業壟斷；集成電路光刻膠目前國產技術較國外先進技術差距較大。
2、光刻膠市場發展概況及細分市場應用領域
國產光刻膠發展起步較晚，與國外先進光刻膠技術相比國內產品仍有較大差距，目前主要集中在 PCB 光刻膠、TFT-LCD 光刻膠等產品。雖然國內 PCB光刻膠已初步實現進口替代，但 OLED 顯示面板和集成電路用光刻膠等高端產品仍需大量進口，國產光刻膠正處于由中低端向中高端過渡階段。
光刻膠作為技術壁壘最高的電子化學品之一，我國光刻膠產業，特別是集成電路用光刻膠，長期以來發展較為緩慢。2008 年以后，在國家重大科技專項的支持和國內集成電路產業快速成長的帶動下，這種局面得到了一定程度的改變，陸續有公司關注集成電路用光刻膠及其相關產品產業化技術開發，并有部分產品進入市場應用。
隨著集成電路集成度的提高，集成電路的制程工藝水平已由微米級、亞微米級、深亞微米級進入到納米級階段。為適應集成電路線寬不斷縮小的要求，光刻膠的波長由紫外寬譜向 g 線（436nm）→i 線（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→EUV（13.5nm）的方向轉移，并通過分辨率增強技術不斷提升光刻膠的分辨率水平。
各類光刻膠的產品的應用領域及產品特點
資料來源：普華有策
根據中國電子材料行業協會的數據，2021年中國集成電路g/i線光刻膠市場規模總計8.14億元，預計到2025年將增長至10.40億元，其中，2021年中國集成電路封裝用g/i線光刻膠市場規模4.95億元，預計2025年將增長至5.97億元。
聚酰亞胺（PI）被譽為高分子材料金字塔的頂端材料。光敏聚酰亞胺（PSPI）是一類在高分子鏈上兼有亞胺環及光敏基團具有優異的熱穩定性與良好的機械、電氣、化學和感光性能的有機材料。利用PSPI在紫外光、X射線、電子束或離子束照射下會發生交聯反應或分解反應，可以通過掩膜版在基材表面形成薄膜圖形。在集成電路晶圓制造與封裝領域中，PSPI廣泛應用于芯片表面的鈍化層、多層金屬互連電路的層間介質層膜、WLP等先進封裝中的凸點制作的介質絕緣層膜，以及塑封電路的應力緩沖保護層等。顯示面板領域，隨著TFT-LCD面板產能逐漸向中國大陸轉移，產業鏈配套的要求使得大陸對TFT-LCD光刻膠的需求快速增長。與此同時，多條OLED產線的規劃與投產也將帶動相關領域對光刻膠的需求增長。由于顯示面板涂布面積大，顯示面板用光刻膠用量及市場規模大于集成電路市場。
3、行業內的主要企業
（1）美國杜邦（DuPont de Nemours,Inc.）
美國杜邦（原名陶氏杜邦）系 2017 年 8 月，陶氏化學與杜邦公司完成對等合并后的一家控股公司。2019 年陶氏杜邦（DowDuPont Inc.）拆分為陶氏（DOW Inc.）、杜邦（Dupont de Nemours, Inc.）及科迪華農業科技（CortevaAgriscience）三家企業。美國杜邦公司從事包括化工、材料、膜產品等在內的綜合業務范圍，集中了原陶氏、原杜邦的特種產品業務，包括封裝材料及解決方案。
（2）日本石原（Ishihara Chemical Co.,LTD）
石原化學株式會社成立于 1900 年，員工數 264 人。日本石原是一家從事金屬表面處理劑和設備、電子材料、汽車化工產品及工業化工產品的開發、制造和銷售的公司。公司的金屬表面處理劑（電鍍液）用于以錫焊結合為目的的表面處理。
（3）日本 JSR
日本合成橡膠公司（JSR）總部位于日本東京，員工數 5,500 多人。產品包括合成橡膠，乳膠和合成樹脂等石油化學類化學品。產品涉及電子、精密加工、半導體、新能源、環境、醫藥等行業。日本 JSR 半導體部門致力于光刻膠和其它周邊的材料、研磨液等 CMP 材料的開發、制造和銷售，為半導體光刻膠的重要海外供應商之一。
（4）德國 Merck（Merck KGaA）
德國 Merck 創建于 1668 年，總部位于德國達姆施塔特市（Darmstadt），下設有顯示材料事業部、顏料和功能性材料事業部、先進技術事業部和集成電路材料事業部。2014 年，公司完成了對國際化工知名制造商安智電子材料（AZ）的收購，進一步擴大了其在亞洲市場的布局。德國默克在國內顯示領域光刻膠市場占有較高的市場份額。
（5）上海新陽
上海新陽半導體材料股份有限公司成立于 2004 年，深圳證券交易所上市公司，總部位于上海。上海新陽主要從事半導體行業所需電子化學品的研發、生產和銷售，同時開發配套的專用設備，主要產品包括晶圓制造及先進封裝用電鍍液及添加劑系列產品、晶圓制造用清洗液系列產品、半導體封裝用電子化學材料等。
（6）安集科技
安集微電子科技（上海）股份有限公司成立于 2006 年，是一家集研發、生產、銷售、服務為一體的自主創新型高科技微電子材料企業，主營業務為關鍵半導體材料的研發和產業化。公司產品包括不同系列的化學機械拋光液和光刻膠去除劑，主要應用于集成電路制造和先進封裝領域。
（7）晶瑞電材
晶瑞電子材料股份有限公司成立于 2001 年，是一家微電子材料的平臺型高新技術企業，圍繞泛半導體材料和新能源材料兩個方向，主導產品包括光刻膠及配套材料、超凈高純化學品、鋰電池材料和基礎化工材料等，廣泛應用于半導體、新能源等行業，主要應用到下游電子產品生產過程的光刻、顯影、蝕刻、清洗、去膜、漿料制備等工藝環節，其光刻膠產品由其子公司蘇州瑞紅生產。
（8）三孚新科
廣州三孚新材料科技股份有限公司成立于 2009 年，是一家表面工程專用化學品提供商，主要從事表面工程技術的研究及新型環保表面工程專用化學品的研發、生產和銷售。三孚新科的主要產品有電子化學品及通用電鍍化學品，具體包括 PCB 水平沉銅專用化學品、PCB 化學鎳金專用化學品、高耐蝕化學鎳專用化學品、裝飾性電鍍添加劑等。
（9）艾森股份
艾森股份圍繞電子電鍍、光刻兩個半導體制造及封裝過程中的關鍵工藝環節，形成了電鍍液及配套試劑、光刻膠及配套試劑兩大產品板塊布局，產品廣泛應用于集成電路、新型電子元件及顯示面板等行業。下游客戶主要集中在集成電路封裝和新型電子元件制造領域，涵蓋了長電科技、通富微電、華天科技、日月新等國內集成電路封測頭部廠商以及國巨電子、華新科等國際知名電子元件廠商。
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